铝硅合金靶材是一种用于溅射镀膜的材料，广泛应用于半导体、光学、电子等领域。铝硅合金靶材的主要成分是铝和硅，具有良好的导电性、导热性、耐热性和耐核辐射性。
铝硅靶材特征
铝硅靶材形状：平面靶 异型定制
铝硅靶材纯度：3N，5N
铝硅靶材尺寸：按图纸加工或者定制
我们还可以提供铝硅合金块、铝硅合金锭、铝硅合金粉等
一种铝硅合金靶材的制备方法
将铝硅铸锭依次在铝硅铸锭的长度方向、铝硅铸锭的宽度方向和铝硅铸锭的厚度方向进行锻压，锻压包括依次进行的墩粗和拔长，墩粗的变形量为铝硅铸锭墩粗前的对应方向上长度的40-60％，拔长的变形量为铝硅铸锭拔长前的对应方向上长度的100-120％，锻压次数为9-12次，每次锻压后进行2-5min水冷，锻压结束后得到锻后靶坯；
第一热处理，热处理的升温速率为8-12℃/min、温度为300-350℃、时间为10-30min，之后进行水冷。
轧制，轧制的参数为5-10mm/道次，轧制的总变形量为锻后靶坯的70-90％。
第二热处理，第二热处理的升温速率为8-12℃/min、温度为350-400℃，时间为10-30min，之后进行水冷。后进行机加工得到铝硅靶材。
该方法制备的铝硅靶材，优化了内部晶粒组织，制备的靶材晶粒细小均匀，将其平均晶粒尺寸控制在95μm以下，尤其可以控制在58μm以下，且晶粒尺寸变化范围在25μm之内；将靶材用于溅射镀膜时可提高溅射速率和成膜均匀性及致密性。
铝硅合金靶材应用
半导体关联靶材：铝硅合金靶材在半导体器件中用作电极、布线薄膜等。
存储器电极薄膜：铝硅合金靶材可用于制造存储器电极薄膜。
粘附薄膜：铝硅合金靶材在粘附薄膜中也有应用。
电容器绝缘膜薄膜：铝硅合金靶材可用于制造电容器绝缘膜薄膜。
铝硅合金应用
航空和交通领域：铝硅合金因其轻质和高强度的特性，被广泛用于航空航天器的结构件制造。在交通运输领域，尤其是在汽车行业，这种合金用于制造发动机部件、散热器以及车身结构等，以提高燃油效率并降低排放。
建筑行业：在建筑行业，铝硅合金用于制造门窗框架、幕墙材料等，这些应用利用了合金的耐腐蚀性和良好的机械性能。
电子产品：铝硅合金也用于电子产品中的散热器，因为它具有良好的热导性，可以帮助散发电子设备产生的热量。
钢铁冶炼：在钢铁冶炼过程中，硅铝合金用作脱氧剂，有助于提高钢的质量。它的使用可以降低炼钢过程中的烧损，并且与纯铝相比，硅铝合金的利用率更高。
制造复杂铸件：铝硅合金适用于生产形状复杂的中低强度铸件，如盖板、电机壳、托架等。此外，它还可以作为钎焊焊料，用于连接金属部件。